AI产业链地图·知识库 3D NAND · 概念
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第二层 · 更新 2026·08·05
概念 技术 / 术语

3D NAND

3D NAND Flash · 立体闪存 · V-NAND

垂直堆叠NAND,突破平面 NAND 的密度上限。堆叠层数从 64 层一路向 400 层演进,是 NAND Flash 在 AI 时代继续提密的核心路径(据 存储体系

3D NAND CONCEPT · 概念
首次提出
2013
归属层
第二层 · 芯片系统
关键参与方
三星电子, SK海力士, 长江存储, 铠侠
反向引用
33 处 · 来自 23

3D NAND(立体堆叠 NAND)

所属子板块存储体系

是什么

3D NAND(三星电子 称 V-NAND)通过把存储单元在垂直方向堆叠,绕开了平面 NAND 制程逼近物理极限的难题 — 既增加单 die 容量,也降低单 GB 成本。

堆叠层数代际演进

代际 层数 量产期
早期 64 2017
中期 96 2018
当前主流 176 2021
上一代旗舰 232 2023
下一代旗舰 400 层 2026 H2三星电子 率先)
远期目标 1,000 层 2030

数据综合 据 存储体系

玩家进展

关键工艺

  • 混合键合 — 400 层及以上层数堆叠的必备工艺
  • 高深宽比刻蚀 — 通孔均匀度决定良率
  • 栅极电荷捕获 — 替代浮栅,单元间串扰更低

关键来源

正文双链:子行业公司概念